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狗万体育网站最新芯片制作工艺制造流程晶圆制

2019-09-01 14:42:10 狗万官网_狗万体育网站 已读

  光刻是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺(图4.7)。晶圆制造工艺流程图在此之后,晶圆表面会留下带有微

  光刻工艺也被称为大家熟知的Photomasking, masking, photolithography, 或microlithography。在晶圆的制造过程中,制造流程晶体三极管、二极管、电容、电阻和金属层的各种物理部件在晶圆表面或表层内构成。这些部件是每次在一个掩膜层上生成的,并且结合生成薄膜及去除特定部分,通过光刻工艺过程,最终在晶圆上保留特征图形的部分。光刻生产的目标是根据电路设计的要求,狗万官网生成尺寸精确的特征图形,并且在晶圆表面的位置正确且与其它部件(parts)的关联正确。

  光刻是所有四个基本工艺中最关键的。光刻确定了器件的关键尺寸。光刻过程中的错误可造成图形歪曲或套准不好,最终可转化为对器件的电特性产生影响。图形的错位也会导致类似的不良结果。光刻工艺中的另一个问题是缺陷。最新芯片制作工艺光刻是高科技版本的照相术,只不过是在难以置信的微小尺寸下完成。在制程中的污染物会造成缺陷。事实上由于光刻在晶圆生产过程中要完成5层至20层或更多,所以污染问题将会放大。